미국 특허에는 실용특허 (Utility Patent), 디자인특허 (Design Patent), 식물특허 (Plant Patent)의 세가지 종류가 있습니다. 한국의 "특허"와 "실용신안"이 미국의 실용특허에 해당되며 한국에서는 디자인이 특허와는 별도로 되어 있지만 미국에서는 디자인도 특허의 대상으로 되어 있습니다. 따라서, 한국에서 특허/실용신안/디자인으로 출원된 경우 미국에서는 특허로 출원하는 것이 가능합니다. 참고로, 식물특허는 무성생식 (asexual reproduction)에 의해 개량된 식물이 특허 대상이 됩니다.

 

위에 언급된 특허 종류와는 별도로 허여된 특허의 결함이나 청구범위를 수정할 수 있는 재발행 특허 (Reissue Patent)나 재심사 특허 (Reexamination Patent)가 있습니다. 재발행 특허는 허여된 특허의 명세서나 도면에 결함이 있거나 청구항의 특허청구범위가 좁거나 넓다는 이유로 특허 전체나 일부가 무효가 될 우려가 있을 경우, 또는 정당한 이유가 있어 특허청구범위나 명세서를 고치고자 할 때 출원하며, 주로 침해소송시나 특허권의 도전시 결함을 치유하기 위해 출원하는 경우가 많습니다. 재발행 특허를 통해 명세서 범위 안에서 특허청구범위를 넓히는 것도 가능하며 이 경우 특허결정된 날로부터 2년이내에 출원하여야 합니다. 재심사 특허는 특허권의 존속기간 중 특허권자를 포함하여 누구나 다시 심사를 청구하여 특허의 유효성을 심사하는 절차로 주로 상대방이 특허권을 무효화 시키기 위하여 사용되고 있습니다.

 

미국은 발명품이 대중에게 공개된 시점부터 특허 출원이 이루어지는 시점까지 1년간의 유예기간 (grace period)을 부여합니다. 실용 특허의 경우, 예비출원 (provisional patent application)을 먼저해서 우선출원일을 확보한 후에 정규출원 (non-provisional patent application)을 통해 특허를 획득할 수도 있고, 아니면 곧바로 정규출원을 통해 특허를 획득할 수도 있습니다.

 

특허존속기간은 실용특허(Utility Patent)의 경우는 특허출원일부터 20년, 디자인특허(Design Patent)의 경우는 특허등록일로부터 14년입니다. (디자인특허의 경우, 2015년 5월 13일 이후에 출원되는 경우는 특허존속기간이 15년으로 변경되었음.)
PCT 국내단계 출원의 경우는 특허 존속기간은 PCT 국제출원일부터 20년이 됩니다.
실용특허의 경우 특허유지를 위해서는 특허 발급이후 3.5년, 7.5년, 11.5년에 특허 관리비를 납부해야 합니다. 디자인특허와 식물특허의 경우는 특허 유지료는 없습니다.

 

미국 특허 출원시, 출원인은 출원인(대리인 및 출원과정에 실질적으로 관계된 자 포함)이 인지하고 있는 특허출원발명의 '특허성에 중요(material to patentability)'하다고 생각되는 선행기술자료를 정보공개진술서(Information Disclosure Statement, IDS)를 통해 특허청에 제출할 의무(duty to disclose)가 있습니다. 따라서, 미국출원에 대응하는 외국(한국포함) 출원에서 인용된 선행기술은 특허성에 중요한 정보로써 IDS를 통해 제출되어야 합니다. 만약, 출원인이 인지하고 있었던 출원발명의 특허성에 중요한 선행기술자료를 제출하지 않았을 경우, 추후 특허로 등록 된다 하더라도 '불공정행위(inequitable conduct)'로 간주되어 특허권을 실시하지 못하게 될 수도 있으므로 IDS 제출은 미국특허출원에서 주의가 필요한 중요한 절차라고 할 수 있습니다.